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控制UV平行曝光的散亂,提高30μm以下精細(xì)圖形的再現(xiàn)性。 以往,如果在底片上粘貼保護(hù)膜,難以形成50μm以下的窄幅圖形。TACKWELL#155FP通過UV區(qū)域的高透明化和大幅減少卷入氣泡,可控制曝光光的散亂,易于形成精細(xì)圖形。 不僅限于膜掩膜,還可用于玻璃掩膜。 與以前的液狀和涂層型不同,僅通過層壓便可粘合,便于操作。
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項目 |
單位 |
#155FP |
本公司現(xiàn)有產(chǎn)品 |
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總厚度 |
um |
20 |
10 |
全光線透過率 |
% |
91.6 |
93.6 |
400nm光線透過率 |
% |
85.1 |
81.8 |
HAZE(霧度) |
% |
1.2 |
7.3 |
散亂率 |
% |
1.0 |
6.8 |
用途 |
高密度封裝基板 |
通用印刷電路板 |
* 記載的數(shù)值為測量值,非保證值。
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